[여의도튜브] 트럼프 'EUV 금지 결단'..中 'ASML 근처' 침투도 / 머니투데이방송

🎯핵심 주장

• 1.중국은 자체 기술로 DUV 노광 장비 양산에 나섰으며, 화웨이는 DUV 장비로 7나노 칩을 탑재한 스마트폰을 출시하며 기술적 진전을 보였다.
• 2.ASML의 EUV 장비는 삼성전자, SK하이닉스, TSMC 등 선두 기업들의 7나노 이하 첨단 반도체 생산에 필수적이지만, 중국은 이를 확보하지 못하고 있다.
• 3.DUV 장비로 첨단 공정(3나노 이하)을 구현하는 것은 수율이 극히 낮고 비용이 기하급수적으로 증가하는 명확한 한계가 있다.
• 4.미국과 서방 당국은 중국의 인적 기술 유출 가능성에 대한 경계감을 높이고 있으며, 실제로 ASML 관련 산업 스파이 및 역엔지니어링 시도 사례가 발생했다.
• 5.중국은 막대한 자금과 인력을 투입해 EUV 자립을 시도하고 있으나, ASML이 수십 년간 축적한 초정밀 기술 격차를 단기간에 따라잡기는 쉽지 않다.

📑제시된 근거

영상은 중국이 자체 기술로 DUV 노광 장비를 양산했다는 소식과 화웨이가 2023년 9월 DUV 장비로 7나노 칩을 탑재한 스마트폰을 출시했음을 언급합니다. ASML 대변인의 발언을 인용해 전 세계 가동 중인 EUV 노광 장비 314대 중 중국 내에는 한 대도 없다고 밝혔습니다. 알자지라 보도를 통해 2019년 도널드 트럼프 미국 행정부가 네덜란드 정부와 ASML을 설득해 최첨단 EUV 장비의 대중국 수출을 전면 금지했다고 전합니다. 블룸버그 통신 보도(2024년 6월)에 따르면 미국과 네덜란드 정부 당국이 네덜란드 아인트호벤 공과대학교에 중국인 유학생과 연구원이 대거 몰려드는 상황에 대해 기술 유출 가능성을 지적하며 우려를 표명했습니다. 2023년 2월 ASML 내부 기밀 데이터에 접근 권한이 있던 중국인 전 직원이 기술 정보를 무단 탈취한 산업 스파이 사건과, 아시아 타임즈 보도(지난해 10월)에 따른 중국 반도체 업체의 ASML 구형 DUV 장비 역엔지니어링 실패 및 기계 파손 사례를 제시합니다. 로이터 통신 보도(지난해 12월)에 따르면 ASML 출신 엔지니어들이 중국에서 EUV 장비를 역설계 중이며, 칭화대학교 연구진이 거대한 입자 가속기(SSMB)를 건설해 반도체 공장을 가동하겠다는 구상(SCMP, 2023년 9월 보도)을 발표했다고 언급합니다.